KS215T-2型，背景材料內(nèi)斜置等截面圓柱形靶標(biāo)，用于檢測(cè)“準(zhǔn)靜態(tài)應(yīng)變彈性成像設(shè)備”和“基于聲輻射力的超聲彈性成像設(shè)備”的探測(cè)深度(可成像深度)。
標(biāo)準(zhǔn)：
1、《準(zhǔn)靜態(tài)超聲彈性成像系統(tǒng)性能試驗(yàn)方法》(YY/T1419—2016)、
2、《基于聲輻射力的超聲彈性成像設(shè)備性能試驗(yàn)方法》(YY/T1480—2016)
3、《超聲彈性仿組織體模的技術(shù)要求》(YY/T1521—2017)
基本結(jié)構(gòu)
(1)體模外殼的側(cè)板和底板均為10mm厚有機(jī)玻璃，頂面覆有復(fù)合薄膜聲窗；
(2)底板上開有兩個(gè)直徑36mm圓孔，口上封有優(yōu)質(zhì)橡皮，可供注液保養(yǎng)之用；
(3)背景材料的尺寸為：長180mm，寬130mm，高(深)120mm；
(4)靶標(biāo)共4件，均為圓柱形，直徑均為Φ12mm；
(5)靶標(biāo)的軸線相互平行，相鄰靶標(biāo)軸線間距34mm,起始靶標(biāo)軸距體模邊緣50mm；
(6)靶標(biāo)軸線與聲窗表面成45°角，以使其所在深度連續(xù)改變。
背景和靶標(biāo)材料的聲學(xué)-力學(xué)特性
(1)背景和靶標(biāo)材料，23℃時(shí)縱波聲速均為(1540±10)m/s；
(2)背景和靶標(biāo)材料，23℃時(shí)縱波聲衰減系數(shù)斜率均為(0.5±0.05)dB/(cm MHz)：
(3)背景材料，23℃時(shí)剪切波速度為2.89m/s±5%，楊氏模量為25kPa±10%；
(4)4件靶標(biāo)，23℃時(shí)剪切波速度分別為1.63m/s±5%，2.16m/s±5%/，3.87m/s±5%，5.16m/s±5%，楊氏模量分別為8kPa±10%，14kPa±10%，45kPa±10%，80kPa±10%。 |
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發(fā)布時(shí)間：2024-4-26
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